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超高反射率ミラー

Ultra High Reflectance Mirrors

イオンビームスパッタリングを用いて、反射率:99.998%以上の超高反射率ミラーの製作しています。また、Finesse >100,000の高精度エタロンや超低反射率のARコートなども可能で、ハイレベルなご要望にお応えできるメーカーです。イオンビームスパッタリングによるハイコーティング


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コーティング技術について


超高反射率ミラー

Ultra High Reflectance Mirrors

Coastline社はイオンビームスパッタリング(Ion-Beam Sputtered)コーティング技術により、低散乱、低吸収、低損失の反射率:99.999%以上の超高反射率ミラーの製作しています。
標準品として、Plano基盤、凸基盤の在庫があります。すべての基盤はスーパポリッシュ(Super Polished)基盤で、以下の仕様となっております。


Surface roughness <=1Årms
Surface figured 1/10 wave PV
Scratch-dig <=10-5

材質はFused Silica、BK7、Pyrex、Sapphire、Sillicon、Carbides、Germanium等があります。


コーティング技術について


超高反射率ミラー

Ultra High Reflectance Mirrors

紫外域から中赤外域までの高品質なオプティクスを提供しています。イオンビームスパッタリングによるコーティングで波長:400nmにおいて反射率:99.997%以上を実現しています。その他にもARコーティング(反射率:0.01%以下)や二波長高反射率ミラーなどの製作も可能です。


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超高反射率ミラー

High Reflection Mirrors (99.998% or higher)

Reseach Electro Optics,Inc (REO)は、イオンビームスパッタリング(ion beam sputtered)技術により超高反射率ミラー(99.998% or higher)を製造しています。

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基盤 UVグレード合成石英/スーパー研磨
表面粗さ <0.8Å(S1面)、<5Å(S2面)
スクラッチ/ディグ 0-0(S1面)、<10-5(S2面)
イオンビームスパッタリングコート
高反射コート 99.998% R
低損失ARコート <0.05% 反射ロス
レーザー損傷しきい値 20J/cm2 for 3ns at 1064nm



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